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Plaquette de substrat de support de saphir de 6 pouces 350um 0.5mmt SSP DSP
Détails sur le produit:
| Lieu d'origine: | China |
| Nom de marque: | ZMSH |
| Certification: | ROHS |
| Numéro de modèle: | Sapphire wafer |
Conditions de paiement et expédition:
| Quantité de commande min: | 5-10pcs |
|---|---|
| Prix: | usd100/pc |
| Détails d'emballage: | 25 gaufrettes dans une cassette |
| Délai de livraison: | 4 semaines |
| Conditions de paiement: | T/T |
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Détail Infomation |
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| nom: | Sapphire Wafer Substrate Carrier | Aspérité: | Ra<0.5nm |
|---|---|---|---|
| Épaisseur: | 0.1-2mm | Qualité extérieure: | meulage de 1sp 2sp |
| Surligner: | Substrat de saphir 350um,support de substrat de plaquette de saphir,plaquette de substrat de saphir SSP |
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Description de produit
6 pouces 153mm 156mm 159mm épaisseur 350um 0.5mmt saphir support substrat plaquette SSP DSP
Description du produit:
La feuille de liaison en saphir est utilisée pour l'amincissement et le polissage des tranches d'arséniure de gallium En raison du poids et de la pression imposés par l'équipement, le processus traditionnel d'amincissement des tranches d'arséniure de gallium est susceptible de provoquer une fragmentation des tranches, ou la contrainte de surface s'accumule pour former une bobine pendant l'amincissement processus, et les performances du produit sont sérieusement perdues.Le disque métallique utilisé pour l'amincissement est susceptible de produire une pollution métallique, et l'adhésif de plaquette et le fluide de meulage chimique sont susceptibles d'introduire une pollution.
Le nouveau processus d'amincissement utilise une plaquette de saphir (diamètre légèrement supérieur à la plaquette cible) comme support pour se lier à une plaquette d'arséniure de gallium dans des conditions de température élevée.La tranche de liaison arséniure de gallium/saphir est fixée à un disque en céramique, amincie et polie par un dispositif spécial, puis fondue dans un lavage à haute température pour séparer la tranche de saphir et d'arséniure de gallium.
Le nouveau processus d'amincissement peut être utilisé pour le traitement d'amincissement de l'arséniure de gallium et de diverses tranches de semi-conducteurs, et le matériau de support peut être du saphir, du verre et d'autres tranches polies.
Le saphir est le choix de support principal en raison de ses propriétés physiques et chimiques supérieures et de sa structure cristalline.Le support de saphir lancé par notre société correspond aux exigences des équipements d'amincissement standard de l'industrie avec un diamètre de 104 mm pour 4 pouces.La plaquette de 6 pouces a un diamètre de 156 mm ou 159 mm, légèrement plus grand que la plaquette standard de 4 pouces, 6 pouces, et la rugosité de la surface de polissage.
Spécification de produit
Matériel : >Cristal d'alumine haute pureté à 99,99 % (méthode des bulles)
Direction du cristal : plan C (0001)
Diamètre:
76,2 mm (taille de diapositive variable de 3 pouces)
104 mm (taille de diapositive de 4 pouces variable)
159 mm (taille de diapositive de 6 pouces variable)
Épaisseur : personnalisée
Polissage : polissage double face
Rugosité de surface de polissage CMP : Ra Tolérance d'épaisseur totale TTV
Applications:
Vous recherchez des plaquettes de saphir de haute qualité en provenance de Chine ?Ne cherchez pas plus loin que le substrat saphir de ZMSH !Nos tranches de saphir sont disponibles en tailles de 2 pouces, 4 pouces et 6 pouces et présentent des surfaces polies d'un seul côté avec une planéité de λ/10@633nm.Avec des épaisseurs allant de 0,5 mm à 2 mm et un parallélisme de 3 secondes d'arc, nos plaquettes de saphir offrent une qualité cristalline et des performances maximales.Obtenez le meilleur des plaquettes de saphir fiables du substrat de saphir de ZMSH !
Paramètres techniques:
| Attributs du produit | Spécifications techniques |
|---|---|
| Matériel | Al2O3 99,999 % |
| Ouverture claire | >90 % |
| Qualité de surface | Poli d'un seul côté |
| Type de substrat | Monocristal |
| Taille | 2 pouces 3 pouces 4 pouces 6 pouces 8 pouces 12 pouces |
| Rugosité de surface | Ra<0.5nm |
| Orientation des surfaces | ±0,5° |
| Parallélisme | 3 secondes d'arc |
| Épaisseur | 0.5-2mm |
| Perpendicularité | 3 secondes d'arc |
Personnalisation :
Présentation de laSubstrat de saphir ZMSH, le choix parfait pour vos applications C-plane M-plane.Notre substrat saphir estfabriqué en Chineavec TTV supérieur de<5 μmet±0,5°Orientation de surface.L'ouverture claire est>90 %, et la perpendicularité est3 secondes d'arc.D'une épaisseur de0.5-2mm, ce substrat est le choix parfait pour vos besoins en C-plane M-plane.Obtenez votre substrat saphir ZMSH aujourd'hui.
Emballage et expédition :
Les produits de substrat saphir sont emballés en toute sécurité avec un film à bulles protecteur, de la mousse et une boîte en carton ondulé pour assurer une livraison sûre et efficace.Tous les colis sont expédiés via un service de messagerie fiable et traçable pour garantir une livraison rapide et en bon état.
Pour les commandes internationales, tous les envois doivent passer les douanes internationales et peuvent être soumis à des frais ou taxes supplémentaires.Les clients sont responsables des droits de douane, droits ou taxes applicables.